鍍膜產(chǎn)品出現(xiàn)臟膜的原因和改善方法

2023/04/27

鍍膜產(chǎn)品的常見(jiàn)問(wèn)題，部分是鍍膜工序的本身造成的，部分是前工程遺留的問(wèn)題，鍍膜最終的品質(zhì)是整個(gè)光學(xué)零件加工的（特別是拋光、清洗）的綜合反映，對(duì)于出現(xiàn)鍍膜不良時(shí)必須綜合考慮，才能真正找到不良產(chǎn)生的原因，對(duì)策改善才能取得成效。

　　膜臟（也稱白壓克）

　　顧名思義，膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟可以包括：灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。（灰塵點(diǎn)和白霧單列）

   　1、灰點(diǎn)臟

　　現(xiàn)象：鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些點(diǎn)子（不是膜料點(diǎn)）有些可以擦除，有的不能擦除。并且會(huì)有點(diǎn)狀脫膜產(chǎn)生。

　　產(chǎn)生原因：

　　1、真空室臟，在開始抽真空時(shí)的空氣渦流將真空室底板、護(hù)板的臟灰?guī)У界R片上，形成灰點(diǎn)層。（膜內(nèi)，不能擦除，會(huì)有點(diǎn)狀脫膜）

　　2、鏡圈或碟片臟，有浮點(diǎn)灰塵，在離子束作用下附著到了鏡片上形成灰點(diǎn)層。（膜內(nèi)，不能擦除，會(huì)有點(diǎn)狀脫膜）

　　3、鏡片上傘時(shí)就有灰塵點(diǎn)，上傘時(shí)沒(méi)有檢查挑選。（膜內(nèi)，不能擦除，會(huì)有點(diǎn)狀脫膜）

　　4、鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點(diǎn)的主要成因，特別是當(dāng)鏡片熱的時(shí)候，更容易吸附灰塵，而且難以擦除。（膜外）

　　5、真空室充氣口環(huán)境臟、開始充氣量過(guò)大、充氣過(guò)濾器臟，充氣時(shí)鏡片溫度過(guò)高也是造成鏡片膜外灰塵點(diǎn)不良的原因。（膜外）

　　6、 作業(yè)員人為帶來(lái)的灰塵污染（膜內(nèi)膜外）。

　　7、 工作環(huán)境中灰塵過(guò)多。

　　改善思路：杜絕灰塵源。

　　改善對(duì)策：

　　1、工作環(huán)境改造潔凈車間，嚴(yán)格按潔凈車間規(guī)范實(shí)施。

　　2、盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺(tái)。

　　3、 真空室周期打掃，保持清潔。

　　2、膜外白霧

　　現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙酮或混合液擦拭，會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕，（又稱：可擦拭壓克）

　　分析：膜外白霧的成因較為復(fù)雜，可能的成因有：

　?、佟⒛そY(jié)構(gòu)問(wèn)題：外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙；

　?、凇⒄舭l(fā)角過(guò)大，膜結(jié)構(gòu)粗糙。

　?、邸夭睿虹R片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)大。

　?、堋⒊睔?；鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣。

　?、?、真空室內(nèi)Polycold解凍時(shí)水汽過(guò)重。

　?、蕖⒄翦冎谐溲醪煌耆?，膜結(jié)構(gòu)不均勻。

　?、?、膜與膜之間的應(yīng)力。

　　改善思路：膜外白霧成因很多，但各有些特征，盡量對(duì)癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。

　　改善對(duì)策：

　　1、改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。改善鏡片出罩時(shí)的環(huán)境（干燥、清潔）

　　2、降低出罩時(shí)的鏡片溫度（延長(zhǎng)在真空室的冷卻時(shí)間）減少溫差、降低應(yīng)力。

　　3、改善充氧（加大），改善膜結(jié)構(gòu)。

　　4、適當(dāng)降低蒸發(fā)速率，改善柱狀結(jié)構(gòu)。

　　5、離子輔助鍍膜，改善膜結(jié)構(gòu)。

　　6、加上polycold解凍時(shí)的小充氣。閥（其功能是及時(shí)帶走水汽）

　　7、從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角。

　　8、改善基片表面粗糙度。

　　9、注意polycold解凍時(shí)的真空度。

　　3、膜內(nèi)白霧。

　　白霧形成在膜內(nèi)，無(wú)法用擦拭方法祛除。

　　可能的成因：

　?、?、基片臟，附著前工程的殘留物。

　?、?、鏡片表面腐蝕污染。

　?、?、膜料與膜料之間、膜料與基片之間的不匹配。

　?、堋⒀趸锍溲醪粔颉?/p>

　?、?、第一層氧化鋯膜料，可能對(duì)某些基片產(chǎn)生白暈現(xiàn)象。

　?、?、基片進(jìn)罩前（洗凈后）受潮氣污染。

　　⑦、洗凈或擦拭不良，洗凈痕跡、擦拭痕跡。

　?、唷⒄婵帐遗K、水氣過(guò)重。

　?、帷h(huán)境濕度大。

　　改善思路：基片本身的問(wèn)題可能是主要的，鍍膜是盡量彌補(bǔ)，鍍膜本身最大的可能是膜料匹配問(wèn)題。

　　改善對(duì)策：

　　1、改進(jìn)膜系，第一層不用氧化鋯。

　　2、盡量減少真空室開門時(shí)間，罩與罩之間在最短的時(shí)間內(nèi)做好真空室的清潔、鍍膜準(zhǔn)備工作。

　　3、真空室在更換護(hù)板、清潔后，最好能空罩抽真空烘烤一下，更換的護(hù)板等真空室部件必須干燥、干凈。

　　4、改善環(huán)境。

　　5、妥善保護(hù)進(jìn)罩前在傘片上的鏡片，免受污染。

　　6、改善洗凈、擦拭效果。

　　7、改善膜匹配（考慮第一層用Al2O3）。

　　8、改善膜充氧和蒸發(fā)速率（降低）。

　　9、加快前工程的流程。前工程對(duì)已加工光面的保護(hù)加強(qiáng)。

　　10、拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不能有拋光粉或其他雜質(zhì)附。