真空鍍膜——電鍍靶材與濺鍍靶材的處理的區(qū)別

2023/02/11

隨著人們生活水準(zhǔn)的提高以及科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，人們對耐磨、耐腐蝕、耐高溫的裝飾鍍膜用品的性能要求越來越高了，當(dāng)然，鍍膜還可以美化這些物件的色彩。下面講解一下電鍍靶材與濺鍍靶材的處理的區(qū)別。

　　電鍍

　　電鍍的原理與電解精煉銅的原理是一致的。電鍍時，一般都是用含有鍍層金屬離子的電解質(zhì)配成電鍍液；把待鍍金屬制品浸入電鍍液中與直流電源的負(fù)極相連，作為陰極；用鍍層金屬作為陽極，與直流電源正極相連。通入低壓直流電，陽極金屬溶解在溶液中成為陽離子，移向陰極，這些離子在陰極獲得電子被還原成金屬，覆蓋在需要電鍍的金屬制品上。

　　濺鍍

　　原理主要利用輝光放電，將氬氣離子撞擊靶表面，靶材的原子被彈出，而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電，將氬氣離子撞擊靶材表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。