真空鍍膜技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

2022/06/20

真空鍍膜技術(shù)不僅能夠滿足人們對(duì)于產(chǎn)品外觀的需求，而且在鍍膜過(guò)程中不會(huì)對(duì)周圍環(huán)境產(chǎn)生較大的污染。

　　真空鍍膜技術(shù)始于20世紀(jì)30年代，當(dāng)前真空鍍膜技術(shù)已從實(shí)驗(yàn)室走向了工廠，實(shí)現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn)，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業(yè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。

　　真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，通過(guò)蒸發(fā)金屬等固體材料，使其氣態(tài)化并附著到產(chǎn)品物件的表面，形成一層均勻的薄膜，增強(qiáng)產(chǎn)品的抗腐蝕性、美觀性等。從整體來(lái)看，真空鍍膜技術(shù)較傳統(tǒng)的電鍍方法，在成本、環(huán)保、產(chǎn)品質(zhì)量、裝飾效果、能源消耗等方面具有較大優(yōu)勢(shì)，是一門擁有光明發(fā)展前景的新興技術(shù)。

　　真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE 分子束外延，PLD 激光濺射沉積等很多種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。

　　真空鍍膜主要有兩種方法：熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射法。真空鍍膜在材料上的選擇較傳統(tǒng)鍍膜方式更加自由，最常用的有金屬單質(zhì)、合金和金屬化合物。目前，市場(chǎng)上用金屬鋁作為鍍膜材料的產(chǎn)品眾多，主要是因?yàn)榻饘黉X具有較低的熔點(diǎn)并且能夠很好地對(duì)光進(jìn)行反射，同時(shí)作為金屬，鋁還具有較好的耐腐蝕性能，延展性優(yōu)良等優(yōu)點(diǎn)，在鍍膜工程中，操作方便，對(duì)被鍍產(chǎn)品影響較小。高純度的鋁對(duì)比其他金屬單質(zhì)來(lái)說(shuō)，在價(jià)格上也比較低。

　　隨著科學(xué)技術(shù)不斷更新，技術(shù)瓶頸的不斷突破，真空鍍膜技術(shù)也會(huì)不斷地變革更新，在未來(lái)會(huì)與微電子器件及納米技術(shù)等高科技相結(jié)合，形成一套相關(guān)的檢查方法和實(shí)用技術(shù)，而電子束蒸發(fā)源將會(huì)成為真空鍍膜技術(shù)中最常用的鍍膜材料加熱方法和發(fā)展趨勢(shì)。據(jù)相關(guān)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)：2021年全球PVD真空鍍膜設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模241億元，預(yù)計(jì)未來(lái)持續(xù)保持平穩(wěn)增長(zhǎng)的態(tài)勢(shì)，到2028年市場(chǎng)規(guī)模將接近316億元。

　　總之，真空鍍膜技術(shù)不僅可以降低污染，保護(hù)環(huán)境，節(jié)約資源，而且還能夠滿足人們對(duì)產(chǎn)品外觀的要求。在未來(lái)，隨著真空鍍膜技術(shù)的不斷推廣和國(guó)家政策的進(jìn)一步傾斜，真空鍍膜技術(shù)會(huì)歷久彌新，不斷改進(jìn)，日趨完善，同時(shí)也會(huì)具有更加廣闊的市場(chǎng)前景。