真空蒸鍍與濺射鍍膜優(yōu)缺點(diǎn)是什么？

2022/03/02

濺射比蒸鍍和工作真空低一個(gè)數(shù)量級(jí),所以膜層的含氣量要比蒸鍍高。

蒸鍍不適用于高溶點(diǎn)材料,如鉬,鎢。因?yàn)槿茳c(diǎn)高,蒸發(fā)太慢,而濺射的速度比蒸鍍快很多。

濺射不適用于低硬度材料,如非金屬材料。

濺射不適用于非導(dǎo)電材料。

蒸鍍不能控制厚度,而濺射可以用時(shí)間控制厚度。

蒸鍍不適應(yīng)大規(guī)模的生產(chǎn)。

蒸鍍的電子動(dòng)能比濺射小很多,雖然含氣量少,但是膜層易脫落。

濺射的膜均勻,蒸鍍的膜中心點(diǎn)厚,四周薄。

在國(guó)內(nèi)蒸鍍工藝比濺射工藝成熟。