真空電鍍的工藝過程

2022/01/07

真空電鍍是在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層，它一種物理沉積現(xiàn)象。真空電鍍工藝過程是怎么樣的呢？

　  真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法：可以利用電阻產生的熱能，也可以利用電子束。

在對塑料制品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（10-5Pa）。

鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。

　真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、ABS+PC料、PC料的產品，同時因其工藝流程復雜、環(huán)境、設備要求高，單價比水電鍍昂貴。