PS-PVD的原理與技術(shù)特點(diǎn)

2021/12/25

PS-PVD 設(shè)備主要由等離子噴槍、真空工作室、真空泵、送粉器、中央控制器等部件組成，如圖 1 所示。噴涂過(guò)程由中央控制器控制，等離子噴槍、工件及樣品臺(tái)均位于超低壓真空密閉室內(nèi)，真空室與真空泵、過(guò)濾除塵系統(tǒng)相連，噴涂時(shí)也可以保持一定的真空度。PS-PVD 采用了超低壓的工作環(huán)境和高功率高熱焓值的等離子噴槍?zhuān)入x子氣體流量可以達(dá)到 200 SLPM（standard liters per minute，SLPM），噴涂功率可達(dá)到約 100 kW，此時(shí)等離子射流形態(tài)和特性均會(huì)發(fā)生很大變化。等離子氣體在電極槍內(nèi)被電弧加熱離解成高能高壓的等離子體，通過(guò)噴嘴進(jìn)入真空室后急劇膨脹形成超音速等離子射流。PS-PVD 技術(shù)一般采用槍內(nèi)送粉的方式，噴涂粉末被直接注入噴槍內(nèi)的等離子射流中，這樣有利于粉末的加熱熔化和氣化。等離子噴槍一般配有 2 個(gè)或 4 個(gè)送粉口，可以同時(shí)注入單路或多路粉末。同時(shí)，PS-PVD裝配了相關(guān)監(jiān)測(cè)裝置，其中原子發(fā)射光譜儀用于表征等離子體性質(zhì)及粉末氣化程度，紅外照相儀及熱電偶監(jiān)測(cè)基體溫度。