利用濺鍍制程進(jìn)行薄膜披覆的特點(diǎn)

2021/12/20

(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

(2)再適當(dāng)?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。

(4)靶材輸入電流及濺射時(shí)間可以控制，容易得到高精度的膜厚。

(5)較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。

(6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。

(7)基板與膜的附著強(qiáng)度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會(huì)繼續(xù)表面擴(kuò)散而得到硬且致密的薄膜，同時(shí)此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。                                

(9)靶材的壽命長(zhǎng)，可長(zhǎng)時(shí)間自動(dòng)化連續(xù)生產(chǎn)。

(10)靶材可制作成各種形狀，配合機(jī)臺(tái)的特殊設(shè)計(jì)做更好的控制及最有效率的生產(chǎn)。