磁控濺射鍍膜的優(yōu)點

2021/08/18

（1）基板有低溫性。相對于二級濺射和熱蒸發(fā)來說，磁控濺射加熱少。

（2）有很高的沉積率。可濺射鎢、鋁薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2薄膜。

（3）環(huán)保工藝。磁控濺射鍍膜法生產效率高，沒有環(huán)境污染。

（4）涂層很好的牢固性，濺射薄膜與基板，機械強度得到了改善，更好的附著力。

（5）操作容易控制。鍍膜過程，只要保持壓強、電功率濺射條件穩(wěn)定，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率。

（6）成膜均勻。濺射的薄膜密度普遍提高。

（7）濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學性能、電學性能及某些特殊性能。

（8）濺射可連續(xù)工作，鍍膜過程容易自動控制，工業(yè)上流水線作業(yè)。