鍍膜技術(shù)-真空鍍膜機的工作原理

2021/07/29

真空鍍膜主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，PLD激光濺射沉積等很多種。

主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的叫做基片，鍍的材料叫做靶材。

基片與靶材一同放入真空室內(nèi)。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面成分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。

濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面成分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。

典型的真空鍍膜，包括了錄像帶，數(shù)據(jù)磁帶DAT，以及很多電極的制作過程。