鍍膜技術--真空鍍膜技術

2020/11/27

　　真空鍍膜技術是利用物理、化學手段在金屬、陶瓷、塑料、玻璃表面鍍上一層特殊性能的膜層，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于原材料本身的優(yōu)越性能。而且真空鍍膜沒有廢水、廢氣等污染，在環(huán)保上擁有絕對優(yōu)勢，必將興起并普及。

　　1. 真空鍍膜一般是指物理氣相沉積法（簡稱PVD法）。PVD依據(jù)制作過程工藝不同又分為真空蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍膜。

　　a.真空蒸發(fā)鍍膜法：在真空室中加熱蒸發(fā)容器中的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍產品表面，凝結形成固態(tài)薄膜的方法。

　　b.離子鍍膜法：蒸發(fā)源的加熱和蒸發(fā)鍍膜相同。由于系統(tǒng)為等離子狀態(tài)，使金屬離子在產品表面吸附成膜，金屬離子具有高能量，鍍膜時離子結晶性佳、膜層的密著性高等。

　　c.濺射鍍膜法：給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在產品表面形成金屬膜層的方法。